鼎龙股份：
尊敬的投资者，您好！公司潜江年产 300 吨 KrF/ArF 光刻胶量产线已于今年 3 月建成投产，为国内首条全流程自主化高端光刻胶量产产线。公司目前已有8款高端晶圆光刻胶（其中ArF光刻胶与KrF光刻胶各4款）取得多家国内主流晶圆厂客户的批量订单，即较今年一季度末新增5款，并有数款产品预期在今年年内实现订单转化。公司正积极提升产品交付速度，2026年上半年产品交付量预计显著提升，商业化进程显著加快。测试进展方面，公司已经累计布局40余款高端晶圆光刻胶，近30款产品向客户送样开展验证测试，其中超10款进入加仑样测试阶段。同时，公司还布局了数款配套的BARC、SOC等光刻辅材，商业化落地节奏持续加快。
CMP 抛光液核心竞争优势
全品类产品矩阵：覆盖铜、铜阻挡层、钨、多晶硅、氮化硅、碳化硅衬底等全制程抛光液，同步配套对应清洗液，实现一站式耗材配套交付；
上游原料自主制备：纳米研磨粒子自主研发、规模化自产，摆脱对外购核心粒子依赖，有效管控成本、稳定供货、匹配定制化抛光需求；
验证与交付优势：多款抛光液已通过国内主流存储、逻辑晶圆厂严苛验证并批量供货，适配先进存储、第三代半导体等新兴工艺；
技术协同优势：与公司 CMP 抛光垫形成材料一体化配套研发，可同步匹配客户抛光工艺优化，提升晶圆良率，形成差异化竞争壁垒。