公司的设备在晶圆厂芯片光刻产线上，是与光刻机一起作为前后工序配套使用的吗？按照目前国内走的多重曝光路线，需要光刻一次，清洗一次。再光刻一次，清洗一次。需要多次光刻多次清洗。光刻设备、涂胶显影设备与清洗设备需要协同合作。
国林科技：
尊敬的投资者，您好。国林半导体公司的产品可为芯片光 刻制造环节中的清洗工艺提供对应的机能水设备，满足工序清洗需求。感谢您的关注。
尊敬的投资者，您好。国林半导体公司的产品可为芯片光 刻制造环节中的清洗工艺提供对应的机能水设备，满足工序清洗需求。感谢您的关注。
（来自 深交所互动易）
答复时间 2025-07-07 08:28:10
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