公司正在开发紫外-臭氧联用设备，可分解光刻胶显影后的有机残留物，清洗效率比传统工艺提升40%。以及正在研发EUV光刻胶生产用的高纯度臭氧气体纯化系统，金属杂质含量<0.1ppt。以上信息是否属实？
国林科技：
尊敬的投资者，您好。公司现有半导体专用臭氧系统设备可以满足工艺应用，具体产品研发情况请您以公司于指定信息披露媒体刊登的公告为准。感谢您的关注。
尊敬的投资者，您好。公司现有半导体专用臭氧系统设备可以满足工艺应用，具体产品研发情况请您以公司于指定信息披露媒体刊登的公告为准。感谢您的关注。
（来自 深交所互动易）
答复时间 2025-08-15 15:54:40
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