芯片光刻制造过程中的多重曝光需要清洗次数增加，对清洗洁净度有更高要求，请问公司的半导体臭氧设备能满足多重曝光工艺的适配需求吗？
国林科技：
尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。
尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。
（来自 深交所互动易）
答复时间 2025-09-18 11:30:12
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