公告日期：2026-01-20

证券代码：【301392】 证券简称：【汇成真空】 编号：【IR-2026001】
广东汇成真空科技股份有限公司

投资者关系活动记录表

投资者关系活动类别 特定对象调研 分析师会议

媒体采访 业绩说明会

新闻发布会 路演活动

现场参观

其他（请文字说明其他活动内容）

详见附件清单

参与单位名称及人员姓名

时间 2026年1月20日 15:00-16:30

地点 广东汇成真空科技股份有限公司会议室

上市公司接待人员姓名 副总经理、董事会秘书 肖献伟先生

证券事务代表 刘珊女士

公司在遵守信息披露相关规定的前提下与投资者进行交流，交
投资者关系活动主要内容 流内容不涉及未披露的重大信息。具体交流内容如下：

第一部分：公司情况介绍

介绍 第二部分：交流环节

1.公司产品目前主要应用于哪些领域

答：公司主要产品为真空镀膜设备以及配套的工艺服务，现主
要应用于智能手机、屏幕显示、光学镜头等消费电子领域，以家居
建材和生活用品为主的其他消费品领域，航空、半导体、核工业、
工模具与耐磨件、柔性薄膜等工业品领域，以及高校、科研院所等
领域，公司将持续加强在光学、精密光学、卷绕等新型应用领域的

开发与拓展。

2.客户是不是买一台设备可以镀所有膜层

答：公司设备定制化程度比较高，每台设备根据客户具体需求
来设计生产，不同的需求会对应不同的工艺和材料，一台设备并不
能镀所有膜层。

3.公司未来是否会做CVD设备

答：PVD（物理气相沉积）和CVD（化学气相沉积）是材料表面
改性与薄膜制备的两大核心气相沉积技术，核心区别在于薄膜成膜
的原理：PVD通过物理过程（蒸发、溅射）使源材料原子/离子沉积，
CVD通过气相化学反应生成新物质并沉积，二者在工艺条件、薄膜特
性、应用场景等方面也有显着差异，公司暂时仍以生产PVD设备为主。
4.公司复合铜箔设备主要工艺

答：公司复合铜箔设备目前采用“两步法”，用真空镀膜设备
磁控溅射铜靶，使铜原子沉积在基膜表面，形成高附着力、高纯度
的连续导电层，为后续电镀提供导电基础。

5.公司精密光学镀膜设备主要对标哪些国际厂家

答：公司精密光学设备目前主要对标德国设备厂家。

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