上证报中国证券网讯中微公司6月8日晚间发布公告，公司及子公司南昌中微半导体设备有限公司的一项发明专利荣获第二十五届中国专利银奖，具体专利名称为一种化学气相沉积装置及其清洁方法（专利号ZL201510218357.1）。

　　据悉，中国专利奖是我国专利领域的最高荣誉，由国家知识产权局和世界知识产权组织联合主办，旨在鼓励和表彰专利权人和发明人对技术创新及经济社会发展所作出的突出贡献。至此，中微公司累计已荣获中国专利奖2项金奖、1项银奖和3项优秀奖，标志着中微公司在技术创新和知识产权保护方面所取得的卓越成就。

　　公告显示，本次获奖的发明专利是中微公司MOCVD设备产品的基础核心专利。MOCVD设备是宽禁带半导体各种微观器件制造的关键设备，采用单晶外延生长技术生产LED芯片、功率器件以及其它第三代半导体器件，具有广阔的应用前景。在MOCVD领域，公司用于氮化镓基LED外延生产的设备已在行业领先客户生产线上大规模投入量产，自2017年起已经成为氮化镓基LED市场份额最大的MOCVD设备供应商，占据行业领先地位。公司在Micro-LED和高端显示领域的MOCVD设备开发上取得了良好进展，并积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用市场。

　　公司站在先进制程工艺发展最前沿，始终强调技术创新、产品差异化和知识产权保护的基本原则，并保持高强度的研发投入。通过核心技术的创新开发，公司产品已达到国际先进水平。公司目前在研项目涵盖六类设备，总共有超过二十款新设备在开发中。截至2025年3月末，公司累计已申请2941项专利，其中发明专利2443项，占比83.07%；已获授权专利1834项，其中发明专利1542项，占比84.08%。公司本次获得第二十五届中国专利银奖，是对公司知识产权工作的充分认可，有利于提升品牌形象、增强行业影响力，对公司的长远发展具有积极影响。（郑玲）