8月28日晚，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）发布2025年半年度报告。2025年上半年，公司实现营业收入49.61亿元，同比增长43.88%；实现归母净利润7.06亿元，同比增长36.62%。同时，公司研发投入达14.92亿元，同比大幅增长53.7%，研发费用占营收比重突破30%。

　　半年报显示，作为中微公司的核心产品，等离子体刻蚀设备在今年上半年实现销售收入37.81亿元，同比增长约40.1%，占公司总收入的75%以上。

　　薄膜沉积设备方面，2025年上半年，公司LPCVD（低压化学气相沉积）和ALD（原子层沉积）设备销售收入同比增长608.2%，成为业绩增长的新引擎。钨系列产品已全部通过关键存储客户端量产验证，并获批量订单。同期，公司开发出应用于先进逻辑器件的金属栅系列产品：ALD（原子层沉积）氮化钛，ALD钛铝，ALD氮化钽产品，已完成多个先进逻辑客户设备验证，在满足先进逻辑客户性能需求的同时，设备的薄膜均一性，污染物控制和生产效率均达到世界先进水平。该系列设备已付运到先进逻辑客户端进行验证，核准推进顺利。

　　同时，公司还在积极拓展泛半导体市场。其MOCVD（金属有机化合物化学气相沉积）设备在氮化镓基LED（发光二极管）市场持续领先，并逐步拓展至碳化硅、氮化镓功率器件及Micro-LED（LED微缩化和矩阵化技术）等新兴领域。今年公司已付运首台红黄光LED专用的MOCVD设备至国内领先客户开展生产验证。