
公告日期:2025-09-01
证券代码:688012 证券简称:中微公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
投资者关系活动记录表
☐特定对象调研 分析师会议
☐媒体采访 ☐业绩说明会
投资者关系
活动类别 ☐新闻发布会 ☐路演活动
☐现场参观
☐其他(请文字说明其他活动内容)
时间 2025年08月
地点 线上电话会
董事长、总经理:尹志尧
上市公司 副总经理、财务负责人:陈伟文
接待人员
副总经理、董事会秘书:刘方
公司近况介绍:
中微公司聚焦高端半导体及泛半导体设备,坚持创新突破,2025 年上
半年业绩继续保持高速增长。
中微公司在过去 14 年保持营业收入年均增长大于 35%、在 2024 年比
2023 年年销售增长 44.7% 的基础上,2025 年上半年营业收入继续保持高
投资者关系活动 速增长,同比增长 43.9%,达到 49.61 亿元。其中,占公司收入 75% 以上
主要内容介绍 的主打设备——等离子体刻蚀设备,2025 年上半年销售 37.81 亿元,同比
增长约 40.1%;公司的新产品 LPCVD 和 ALD 导体化学沉积设备销售同比
增长 608.2%。公司针对先进逻辑和存储器件制造中多种关键刻蚀和薄膜工
艺实现大规模量产,高端产品新增付运量显著提升。
公司 2025 年上半年归母净利润 7.06 亿元,较去年同比增长 36.6%。由
于国际地缘政治的严峻形势,我们上半年持续大力投入新产品研发,研发
投入达到 14.92 亿元,同比增长约 53.70%,研发投入占公司营业收入比例约为 30.07%,远高于科创板上市公司的平均研发投入水平。我们开发设备一贯坚持 “技术的创新、产品的差异化和知识产权保护”,这使我们开发的新设备有极强的竞争力和迅速扩大市场份额的能力。
公司目前在研项目涵盖六大类设备、二十多款新设备的开发,包括新一代的 CCP 高能等离子体刻蚀设备、新一代的 ICP 低能等离子体刻蚀设备、金属刻蚀设备、晶圆边缘刻蚀设备、低压热化学沉积 LPCVD 及原子水平沉积 ALD 等多种导体薄膜设备、硅和锗硅外延 EPI 设备、新一代等离子体源的 PECVD 设备和电子束量检测等设备。在泛半导体微观制造领域,中微公司也在不断拓展产品布局,包括制造氮化镓基 Micro-LED 的 MOCVD设备,用于制造红黄光 LED 的 MOCVD 设备,制造碳化硅和氮化镓功率器
件的 MOCVD 设备,制造 MEMS 和先进封装 Chiplet 所需的新一代 TSV 深
硅刻蚀设备和 PVD 及 CVD 设备,大平板显示技术、智能玻璃和玻璃基板的大平板设备领域所需的薄膜设备及等离子体刻蚀设备等。
问答环节主要内容:
1、 请问如何看待中国半导体设备行业规模的成长趋势及可持续性?
答:根据 Techinsights 的数据,2025 年预计全球半导体设备行业规模约为1086 亿美元,其中中国半导体设备市场规模占比约 35%。回顾半导体设备发展历史,其市场具有波动较大,可预测性较差的特点。但可以预期的是在 5-10 年长周期视角,设备是半导体行业增速最快的领域之一。中国的半导体设备市场平均增长速度远高于国际整体增速,且已成为世界第一大的市场。伴随国产设备市占率的不断提升,中国半导体设备行业的增速将持续好于海外。我们对中国半导体设备行业及中微公司未来的发展拥有足够的信心。
2、 请问公司如何看待半导体设备行业竞争格局的变化?
答:我国的半导体设备行业起步于 2004 年前后,经过 20 余年的努力,已经对半导体设备品类形成了全面覆盖。设备企业做好产品并不断拓新的产品种类是自然且健康的竞争状态。中微公司始终抱着开放的心态,欢迎合规、良性的、有利于行业快速发展的竞争。中微公司未来将……
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