2025年10月13日，美迪凯新增“光刻机(胶)”概念。

入选理由：2025年10月9日回复称，公司已完成光刻用掩膜版衬底生产工艺的开发，并已开始逐步送样。掩膜版是光刻机将电路图形转移到晶圆上的关键耗材，其质量直接影响到光刻的精度和良率。

公司涉及的其他概念：无人机、裸眼3D、激光雷达、AI眼镜、玻璃基板、虚拟现实、混合现实、智能穿戴、半导体概念、苹果概念、华为概念、增强现实、生物识别。

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