公告日期：2026-03-24

证券代码：688721 证券简称：龙图光罩
深圳市龙图光罩股份有限公司

SHENZHEN LONGTU PHOTOMASK CO., LTD.

（深圳市宝安区新桥街道象山社区新玉路北侧圣佐治科技工业园 4#厂房 101）

关于本次募集资金投向属于科技创新
领域的说明

二〇二六年三月

深圳市龙图光罩股份有限公司（以下简称“龙图光罩”或“公司”）根据《上市公司证券发行注册管理办法》等法律法规和规范性文件的规定，结合公司本次向特定对象发行股票方案及公司实际情况，对本次募集资金投向是否属于科技创新领域进行了客观、审慎评估，编制了《深圳市龙图光罩股份有限公司关于本次募集资金投向属于科技创新领域的说明》（以下简称“本说明”）。具体内容如下：

（除另有说明外，本说明中简称与术语的含义与《深圳市龙图光罩股份有限公司 2026 年科创板向特定对象发行 A 股股票预案》释义部分内容一致。）

一、公司的主营业务

公司主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售，是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商。公司紧跟国内半导体发展路线，不断进行技术攻关和产品迭代，量产产品对应下游晶圆制造的工艺节点已提升至 90nm，更高节点产品已在送样验证和规划建设中。公司掩模版产品广泛应用于信号链及电源管理 IC 等成熟制程，以及功率器件、MEMS 传感器、先进封装等特色工艺制程。

公司的主要产品为掩模版，是集成电路制造过程中的图形转移工具或者母版，承载着图形信息和工艺技术信息。掩模版的作用是将承载的电路图形通过曝光的方式转移到硅晶圆等基体材料上，从而实现集成电路的批量化生产。掩模版作为芯片光刻的“母版”，用于半导体制造的光刻环节。半导体制造的光刻是指通过曝光工序，在晶圆表面的光刻胶上刻画出电路图形，然后通过显影、刻蚀等工艺流程，最终将电路图形转移到晶圆上的过程。

半导体掩模版作为半导体制造关键材料之一，由于其技术壁垒较高，国内市场长期由国际大厂所占据，如美国 Photronics、日本 Toppan、日本 DNP 等，国内厂商市场影响力尚低。公司长期聚焦半导体掩模版研发，不断实现技术创新和产品迭代升级，掩模版制程能力和下游应用领域不断扩展，成功进入了国内众多知名半导体厂商供应商名录并建立起稳定的合作关系，并在部分制程节点上占据了境外半导体掩模版厂商的市场份额，实现了进口替代。

二、本次募集资金使用计划

本次向特定对象发行股票募集资金不超过 146,000.00 万元（含本数），扣除发行费用后的净额全部用于以下项目：

单位：万元

序号 项目名称 投资总额 拟使用募集资金

1 40nm-28nm 半导体掩模版生产线建设项目 195,436.81 146,000.00

合计 195,436.81 146,000.00

募集资金到位前，公司可以根据募集资金投资项目的实际情况，以自有或自筹资金先行投入，并在募集资金到位后予以置换。募集资金到位后，若扣除发行费用后的实际募集资金净额少于拟投入募集资金总额，不足部分由公司以自有或自筹资金解决。

三、本次募集资金投资项目的基本情况和必要性、可行性分析
（一）项目基本情况

本次募集资金将全部投入于 40nm-28nm 半导体掩模版生产线建设项目（以下简称“本项目”）。本项目建设单位为公司全资子公司珠海市龙图光罩科技有限公司，项目拟投资 195,436.81 万元，用于建设厂房及其他配套设施，并购置先进的电子束光刻机、干法蚀刻机、无酸清洗设备、高端量检测设备、模拟曝光设备和高端修补设备等。项目建设周期为 36 个月，项目拟通过建立高端半导体掩模版生产线，实现 40nm-28nm 工艺节点半导体掩模版的量产。本项目建成达产后，公司将新增每年稳定产出 15,000 片半导体掩模版；在产品结构上，除现有的二元掩模版和相移掩模版外，增加更高制程的 KrF-PSM、ArF-PSM 以及 OMOG 掩模版产品，更好的满足客户需求。

项目实施后，公司预计能够填补我国 ……
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