截至5月20日收盘，光刻机概念上涨3.10%，位居概念板块涨幅第3，板块内，38股上涨，张江高科、晶方科技等涨停，同飞股份、中船特气、沃格光电等涨幅居前，分别上涨12.76%、12.25%、9.94%。跌幅居前的有中瓷电子、华辰装备、泰晶科技等，分别下跌4.40%、3.92%、3.14%。

　　今日涨跌幅居前的概念板块

　　资金面上看，今日光刻机概念板块获主力资金净流入21.13亿元，其中，31股获主力资金净流入，10股主力资金净流入超亿元，净流入资金居首的是晶方科技，今日主力资金净流入7.02亿元，净流入资金居前的还有张江高科、大族激光、新莱应材等，主力资金分别净流入7.01亿元、6.09亿元、1.74亿元。

　　资金流入比率方面，张江高科、晶方科技、美埃科技等流入比率居前，主力资金净流入率分别为31.49%、28.97%、12.33%。（数据宝）

　　光刻机概念资金流入榜