截至6月26日收盘，光刻机概念上涨0.85%，位居概念板块涨幅第2，板块内，25股上涨，富创精密20%涨停，*ST和科涨停，新莱应材、珂玛科技、江丰电子等涨幅居前，分别上涨14.54%、11.46%、7.51%。跌幅居前的有联合化学、腾景科技、华特气体等，分别下跌9.07%、8.08%、7.94%。

　　今日涨跌幅居前的概念板块

　　资金面上看，今日光刻机概念板块获主力资金净流出1.54亿元，其中，25股获主力资金净流入，9股主力资金净流入超亿元，净流入资金居首的是江丰电子，今日主力资金净流入3.73亿元，净流入资金居前的还有晶方科技、富创精密、张江高科等，主力资金分别净流入3.53亿元、2.55亿元、2.49亿元。

　　资金流入比率方面，海立股份、张江高科、*ST和科等流入比率居前，主力资金净流入率分别为17.21%、10.26%、9.78%。（数据宝）

　　光刻机概念资金流入榜