证券日报网6月30日讯 ，龙图光罩在接受调研者提问时表示，公司40nm-28nm半导体掩模版生产线建设项目（珠海二期）总投资为195436.81万元，拟使用募集资金146000.00万元，不足部分由公司以自有或自筹资金解决。项目实施主体为公司全资子公司珠海市龙图光罩科技有限公司，建设地点位于珠海市，与现有珠海工厂位于同一厂区，但拥有相互独立的厂房和产线。建设周期为36个月。项目完全达产后，将新增40nm-28nm制程半导体掩模版年产能15000片，产品主要面向高端模拟IC、MCU等下游应用场景，全面填补公司高端制程产能空白。除现有的二元掩模版和相移掩模版外，还将增加KrF-PSM、ArF-PSM以及OMOG掩模版等更高制程产品。