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发表于 2026-07-04 06:35:00 股吧网页版
拓荆科技收购无锡尚积 谋求“沉积+刻蚀”双主线布局
来源:中国经营网 作者:顾梦轩 李正豪

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  刚完成46亿元定增,半导体设备供应商拓荆科技(688072.SH)就开启一轮收购。近日,拓荆科技发布《关于筹划发行股份及支付现金购买资产并募集配套资金事项的停牌公告》(以下简称《收购公告》),公告显示,拓荆科技正在筹划以发行股份及支付现金的方式购买无锡尚积半导体科技股份有限公司(以下简称“无锡尚积”)的控股权并募集配套资金。

  《收购公告》指出,因本次交易尚存在不确定性,为了保证公平信息披露、维护投资者利益,避免对公司股价造成重大影响,拓荆科技自2026年6月29日(星期一)开市起开始停牌,预计停牌时间不超过10个交易日。

  对于此次收购原因,经济学博士后石磊在接受记者采访时指出,拓荆科技此次收购目的在于补齐PVD与干法刻蚀领域的短板,加速向综合性平台型设备巨头迈进。通过此次并购,拓荆科技将整合无锡尚积成熟的技术,形成“沉积+刻蚀”双主线布局,从而从单一设备商升级为“核心工艺整体解决方案提供商”。

  对于此次收购相关细节,记者致电拓荆科技并发送采访邮件,不过截至记者发稿,公司尚未回复。

  标的估值成关键

  相关资料显示,拓荆科技自成立以来,一直深耕高端半导体专用设备领域,重点聚焦薄膜沉积设备和应用于三维集成领域的先进键合设备及配套量检测设备,主要产品应用于逻辑芯片、存储芯片、功率器件、Micro-OLED、硅光技术、图像传感器(CIS)等领域。

  无锡尚积的主要产品包括PVD(物理气相沉积)、ETCH(刻蚀)、CVD(化学气相沉积)等核心半导体设备。其中的PVD和ETCH,正是拓荆科技缺少且需要的部分。

  据记者了解,拓荆原有优势集中在介质薄膜沉积环节,但在功率半导体、先进封装等需要多工艺组合的市场中,缺乏完整的设备覆盖能力。而无锡尚积的PVD与刻蚀设备已在头部客户完成量产验证,技术成熟度高,且与拓荆现有工艺技术高度互补。

  济安研究院研究员万力向记者指出,从协同角度看,拓荆科技此次收购最直接的价值有三点。

  第一,产品矩阵协同。半导体设备客户往往更希望供应商具备多工艺、多设备、多场景服务能力。拓荆科技如果能够补齐PVD和刻蚀能力,就更接近平台型设备公司的形态。

  第二,客户资源协同。拓荆科技已经进入较多主流芯片制造产线,募集说明书也披露,公司产品已进入约100条芯片制造厂生产线,累计出货反应腔超过3400个。如果无锡尚积产品能够借助拓荆科技的客户体系加快导入,将有利于缩短市场验证周期。

  第三,研发和工艺协同。万力指出,拓荆科技在薄膜沉积方面的技术积累,与无锡尚积在PVD、刻蚀等方向的布局结合后,可以提高公司围绕先进制程、先进封装、功率器件等场景提供整体解决方案的能力。

  根据《收购公告》,目前本次交易正处于筹划阶段,交易各方尚未签署正式的交易协议,具体交易方案仍在商讨论证中,尚存在不确定性。本次交易尚需提交公司董事会、股东会审议,并经监管机构批准后方可正式实施,最终能否通过审批尚存在一定不确定性,有关信息均以公司指定信息披露媒体发布的公告为准。

  谈及此次收购可能面临的不确定性,石磊向记者指出,鉴于拓荆科技停牌前年内股价累计涨幅已超150%,若交易最终未能达成或获批,可能引发股价波动风险。

  同时,石磊表示,标的公司无锡尚积半年前刚完成Pre-IPO轮融资,在当前资本市场环境下,如何对入局机构及创始团队进行合理定价是各方博弈的关键。

  最后,并购完成后,双方在技术、人员、业务及企业文化等方面的深度整合能否达到预期效果,也面临着一定的管理挑战。

  对于收购标的的估值问题,万力认为,无锡尚积所处赛道热度高,PVD、刻蚀、CVD又都是国产半导体设备的重要方向。热门资产往往容易出现估值预期较高的问题。如果最终交易价格过高,上市公司未来就可能面临商誉、整合和业绩承诺兑现压力。

  万力还指出,此次交易虽然经初步测算不构成重大资产重组,也不会导致公司控制权变化或构成重组上市,但后续仍需履行董事会、股东会以及监管审核等程序。如果市场环境、股价、监管关注点或交易各方诉求发生变化,交易推进仍可能受到影响。

  转型“核心工艺整体解决方案提供商”

  今年以来,拓荆科技股价表现亮眼。Wind数据显示,截至7月1日,拓荆科技股价年内已经上涨152.26%。

  分析拓荆科技今年以来股价表现,石磊向记者指出,拓荆科技股价大幅上涨,主要得益于行业景气度提升、自身业绩爆发及资本运作预期的多重共振:在AI浪潮与国产替代的双重驱动下,国内存储龙头加速扩产带动设备板块高景气。

  石磊同时指出,公司基本面强劲,2026年一季度公司归母净利润同比暴增近4.9倍,先进制程设备的规模化量产与规模效应促使利润弹性加速释放。

  “此外,公司近期顺利完成46亿元定增,并筹划收购无锡尚积以补齐核心设备短板,这一系列外延式扩张举措进一步提振了市场信心与预期。”石磊说。

  记者注意到,2022年A股上市后,拓荆科技业绩稳步增长。2022年至2025年,公司营业收入和归母净利润均实现四连涨,其中营业收入从17.06亿元增长至65.19亿元;归母净利润分别为3.69亿元增长到9.27亿元。

  在业绩保持增长的情况下,收购无锡尚积能否进一步增厚拓荆科技利润?

  万力认为,还不能过早下定论。她表示,从积极角度看,无锡尚积的业务与拓荆科技具有较强互补性。PVD、刻蚀和CVD都是半导体制造中的关键设备,如果相关产品已经具备批量导入能力,进入拓荆科技体系后可能获得更强客户资源和资金支持,从而提升商业化速度。

  而从谨慎角度看,半导体设备收入确认周期较长,客户验证严格,单台设备价值高但交付和验收节奏不稳定。即使并购完成,利润贡献也未必马上体现在报表上。“如果并购估值较高,后续整合效果又不及预期,还可能带来商誉压力和业绩波动。”万力说。

  石磊认为,短期内,由于交易尚处筹划阶段,收购标的估值与定价未定,且并表后的商誉摊销及整合成本可能对近期账面利润带来一定不确定性。

  “但从长期来看,收购极具增厚潜力。”石磊分析,通过整合无锡尚积在PVD与干法刻蚀领域的成熟技术,拓荆科技将补齐平台“最后一块拼图”,形成“沉积+刻蚀”双主线布局,成功转型为“核心工艺整体解决方案提供商”。

  “这种平台化供应能力将有效提升单厂客单价与客户黏性,助力公司在更宽广的赛道上抢占市场份额,从而为公司带来持续且可观的利润增量。”石磊说。

  记者同时注意到,6月22日,拓荆科技刚刚完成46亿元定增募资,其中20亿元用于前沿技术研发中心建设项目,基于公司前沿技术战略布局,拟重点围绕PECVD、ALD、沟槽填充CVD等工艺设备领域深耕,开展多项先进薄膜沉积工艺和设备的研发,并逐步突破其中的前沿核心技术。

  受访人士向记者指出,拓荆科技的46亿元定增与此次收购在战略逻辑上一脉相承,共同构成了“内生研发+外延并购”的双轮驱动模式,旨在加速向“综合性平台型设备巨头”迈进。

  石磊指出,定增资金重点投向PECVD、ALD等前沿技术研发以加宽主业“护城河”,而收购无锡尚积则快速补齐了PVD与干法刻蚀领域的短板,精准填补了平台化进阶的最后一块拼图。

  石磊表示,这一系列举措顺应了行业从“单点突破”向“平台化整合”转变的趋势,推动公司从单一设备商向“核心工艺整体解决方案提供商”转型,通过提供一站式成套解决方案增强客户黏性,从而具备了在更宽广赛道上与业内龙头正面交锋的综合实力。

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