拓荆科技10日公告称，公司拟通过发行股份及支付现金的方式购买无锡尚积半导体科技股份有限公司（下称无锡尚积）82.97%股份、无锡宽行企业管理有限公司（下称无锡宽行）100%股权和上海泰纳微企业管理有限公司（下称上海泰纳微）100%股权，并募集配套资金。本次交易后，公司将直接及间接持有无锡尚积100%股份。

　　因本次收购，拓荆科技于今年6月29日开市起开始停牌，将于7月13日（下周一）开市起复牌。

　　从标的资产看，无锡尚积主要从事半导体薄膜沉积与刻蚀设备的研发、生产和销售，主要产品包括PVD（物理气相沉积）、CVD（化学气相沉积）工艺薄膜沉积设备与刻蚀设备。目前，无锡尚积的产品和收入结构以PVD设备为主，其PVD设备产品在功率半导体、MEMS、射频芯片等细分领域具有国内领先地位；刻蚀领域目前聚焦干法刻蚀设备，主要应用于MEMS领域，并逐渐向功率器件、射频器件、先进封装等领域拓展；CVD设备适用于射频、功率器件、先进封装等领域，目前处于产品研发和客户导入阶段。

　　上海泰纳微、无锡宽行，为无锡尚积持股平台，除持有无锡尚积股份外未开展其它业务。拓荆科技收购上海泰纳微和无锡宽行100%股权的目的，是为了间接取得其持有的无锡尚积股份。

　　拓荆科技表示，本次交易系中国本土核心半导体设备企业间的产业整合，契合国家集成电路产业发展战略及资本市场并购重组政策导向。拓荆科技深耕薄膜沉积设备行业多年，已形成PECVD、ALD和Gap-Fill CVD等核心品类；无锡尚积长期聚焦PVD设备研发创新，拥有成熟量产机型与核心工艺技术。通过本次交易，公司将快速补齐PVD产品线，完善对主流薄膜沉积工艺的覆盖。同时，标的公司的PVD设备和刻蚀设备亦可应用于三维集成领域的RDL、TSV、TGV等核心工艺环节，交易完成后上市公司将形成覆盖薄膜沉积、刻蚀、键合、检测的成套三维集成设备产品线。

　　公告称，本次交易的审计及评估工作尚未完成，标的资产估值及定价尚未确定，本次交易预计未达到《上市公司重大资产重组管理办法》规定的重大资产重组标准。

　　2025年年，拓荆科技实现营业收入65.19亿元，同比增长58.87%；归母净利润9.27亿元，同比增长34.67%。2026年一季度，该公司实现营业收入11.12亿元，同比增长56.97%；归母净利润5.71亿元，同比扭亏为盈。

　　截至本次停牌前最后一个交易日（2026年6月27日），拓荆科技近一年股价累计上涨约451.18%，总市值超2400亿元。