消息面上，10月25日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。

　　券商研究方面，长江证券表示，当前中国光刻胶产业已形成“多点开花，梯队突破”的格局。多家机构认为，三重逻辑支撑行业高增长：市场规模持续扩容，国产替代空间广阔；技术突破打通产业化瓶颈；政策+需求双轮驱动，行业进入红利释放期。中国光刻胶产业正从“技术突破期”迈向“规模化放量期”和“盈利能力兑现期”。

　　截至2025年10月27日 13:56，上证科创板半导体材料设备主题指数(950125)强势上涨2.89%，成分股拓荆科技(688072)上涨7.55%，艾森股份(688720)上涨7.42%，中微公司(688012)上涨4.55%，华海诚科(688535)，有研硅(688432)等个股跟涨。科创半导体ETF鹏华(589020)上涨2.90%，最新价报1.21元。

　　科创半导体ETF鹏华紧密跟踪上证科创板半导体材料设备主题指数，上证科创板半导体材料设备主题指数选取科创板内业务涉及半导体材料和半导体设备等领域的上市公司证券作为指数样本，以反映科创板半导体材料和设备上市公司证券的整体表现。

　　数据显示，截至2025年9月30日，上证科创板半导体材料设备主题指数(950125)前十大权重股分别为中微公司(688012)、华海清科(688120)、拓荆科技(688072)、沪硅产业(688126)、安集科技(688019)、中科飞测(688361)、芯源微(688037)、盛美上海(688082)、华峰测控(688200)、天岳先进(688234)，前十大权重股合计占比74.36%。