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发表于 2026-04-02 21:45:50 股吧网页版
中微公司尹志尧:到2035年成为全球第一梯队的半导体设备公司
来源:上海证券报·中国证券网 作者:郑维汉

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  上证报中国证券网讯(记者郑维汉)“到目前为止,我们已经有37种成熟的设备在大生产线实现量产,而且有批量的订货。希望到2035年,公司同时在规模、产品竞争力、客户满意度方面,成为全球第一梯队的半导体设备公司。”4月1日,中微公司董事长兼总经理尹志尧在2025年度业绩说明会上表示。

  中微公司多产品线显著增长

  公司最新披露的年报显示,中微公司2025年全年实现营业收入123.85亿元,同比增长36.62%,经营业绩创下历史新高;归属于母公司所有者的净利润约21.11亿元,较上年增加约4.96亿元,同比增长约30.69%。

  研发方面,中微公司2025年研发投入37.44亿元,占年销售额的比例达到30.2%,开发项目涵盖六大类,超过二十款新设备。

  据尹志尧介绍,中微公司开发的CCP高能等离子体和ICP低能等离子体刻蚀两大类,包括20多种细分刻蚀设备,已被广泛应用于国内和国际一线客户,可覆盖从65纳米到3纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用。截至2025年底,公司刻蚀设备反应台全球出货量超过6800台,市占率持续稳步提升。

  薄膜沉积设备方面,尹志尧表示,2025年,中微公司薄膜设备销售迎来爆发式增长,营收同比大幅增长约224.23%,成为业绩增长的重要新引擎。“我们以行业领先的研发速度,在短时间内成功开发出十几种导体和介质薄膜核心设备,多款产品实现技术与市场的双重突破。”

  泛半导体与新兴设备领域方面,中微公司先进封装所需的TSV第三代刻蚀机即将实现市场突破。氮化镓基MOCVD设备的行业领先地位持续稳固,同时接连开发出碳化硅和氮化镓功率器件用MOCVD设备、Micro LED所需的蓝绿光和红黄光等四款新型MOCVD设备,并陆续推向市场。

  值得一提的是,公司在大平板设备领域实现了从无到有的跨越式突破,仅用18个月就成功开发出OLED 8.6代线大平板PECVD设备,达到±5%薄膜厚度均匀性要求,并顺利进入大生产线认证。

  尹志尧表示,公司在五年左右时间将覆盖60%以上的集成电路高端关键设备和70%以上的先进封装设备,成为集成电路设备的平台型公司。

  “三维立体生长”与“有机生长和外延扩展”相结合

  尹志尧表示,2026年,公司将坚持“三维立体生长”和“有机生长和外延扩展”相结合的战略,继续巩固在集成电路关键设备领域的核心竞争力和优势,不断拓展泛半导体关键设备应用,并通过持续的技术升级和深度的产业链合作进行新兴领域探索。

  具体来看,中微公司的“三维立体发展”平台化战略在2025年全面落地,通过利用自身核心技术,延伸至边缘产业,聚焦面向终端消费者和中小企业的刚性需求,实现多元业务布局持续深化。

  在环境保护与清洁能源领域,中微公司深耕尾气处理设备和氢燃料电池相关业务并取得进展;在企业服务领域,中微公司为中小企业打造的营运软件市场版图持续扩大;在大健康领域,公司成功取得了首个产品的第二类医疗器械注册证。

  在战略外延扩展与产业投资领域,中微公司拟通过发行股份并购国内先进的CMP公司,成功实现从“干法”向“干法+湿法”整体解决方案的关键跨越,填补公司在湿法设备领域的布局空白。

  同时,中微公司自上市以来累计投资四十余个产业链上下游项目,总投资额约23.5亿元,浮盈已超80亿元;公司专业产业投资平台“智微资本”成立不到半年成功募集15亿元资金,已完成十余个项目的投资并取得良好进展,产业投资的战略协同效应与经济效益持续释放。

  此外,中微公司的厂房建设一直保持高速扩展的势头。

  “三年前中微只有自建厂房2.8万平米,到2025年已扩大到35万平米,包括南昌14万平米的生产研发基地和上海临港18万平米的生产研发基地。10万平米的临港滴水湖中微总部大楼正在进行内部装修,年中即可完成。临港基地二期、成都高新区基地、广州增城基地项目已开始启动。三年左右公司将会有85万平米的厂房,确保公司在今后10年产品开发和业务高速发展的需要。”尹志尧表示。

  国际化布局方面,中微公司通过间接销售和产品授权等方式,已逐步打开日本、欧洲和东南亚市场,与十五个海外客户建立了业务往来,其技术与产品正逐步走向更广阔的国际市场。

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