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发表于 2025-10-14 10:41:50 股吧网页版
英伟达发布800VDC架构 氮化镓龙头英诺赛科站上风口
来源:21世纪经济报道


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  21世纪经济报道记者陶力

  在10月13日开幕的OCP Global Summit 2025上,英伟达(NVIDIA)正式发布了面向未来AI数据中心的800V高压直流(800 VDC)电源架构,并同步发表题为《800 VDC Architecture for Next-Generation AI Infrastructure》的白皮书,揭示其 “AI Factory(人工智能工厂)” 愿景。

  英伟达创始人黄仁勋指出,AI Factory 将成为继电力与互联网之后的 “第三次基础设施革命”——在这个新时代,算力将像电力一样被生成、输送和消耗,成为推动全球经济与产业智能化的核心能源。

  在英伟达的主题 Keynote 中,英诺赛科(02577) 被重点展示为 800 VDC 生态体系的核心合作伙伴。该公司可提供从800V 输入到1VGPU输出的全链路 GaN 解决方案,并已在数据中心、电动汽车和消费电子等多个领域实现大规模应用,可以充分满足该方案的技术需求。受到大会消息影响,公司股价在10月14日开盘大涨超过14%。

  英伟达从 415 伏交流(上)到 800 伏直流(下)的配电架构演进

  据了解,英伟达在最新的Vera Rubin GPU平台与 Kyber系统架构中,将首次采用 800VDC供电体系,使单机柜功率从传统的200kW跃升至1MW,为“千兆瓦级AI工厂(Gigawatt AI Factories)”提供能源基础。相较传统54V架构,800VDC让电流降低15倍以上,铜损显著减少,布线更轻、更高效。

  根据英伟达发布的白皮书,在未来兆瓦级AI系统中,传统硅器件的效率与热管理已接近极限。要在有限空间内实现更高算力密度与更低能耗,就必须采用能够在高电压、高频率下运行的新型功率器件。氮化镓(GaN)因此成为800VDC架构中不可或缺的关键技术,也是此次800VDC架构解决方案的核心。

  氮化镓能在超高频率(高达1-10MHz)下保持低损耗运行,整体系统能效提升10–13%,功率密度提升50%以上。这意味着在相同机柜体积内可容纳更多算力,而能耗与散热需求却显著下降。

  业内专家认为,随着英伟达800VDC路线图的发布,AI数据中心正从“54V时代”迈向“800V 时代”,这不仅是能效的跨越,更是能源体系的革命。

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