据台湾FTNN新闻网12月2日报道，台积电在今年7月惊传机密技术外泄案。一名已离职工程师陈力铭勾结台积电竹科厂2名工程师戈一平、吴秉骏涉嫌窃取2纳米制程机密技术，并泄漏给竞争对手，在职2名员工前者案发后离职，后者遭解雇，3人均移送法办。台湾“高等检察署”2日侦查终结，依“安全法”、“营业秘密法”等4罪，追加起诉日企东京电子公司，求处共1.2亿元新台币（1元新台币约合0.23元人民币）罚金。

　　据报道，陈力铭曾任职于日本半导体大厂东京电子公司在台湾的子公司。

　　据报道，涉嫌窃取2纳米制程机密技术的3名工程师皆毕业于同一所大学，为学长学弟关系。陈力铭在台积电资历8年，并曾担任需与研发、晶圆生产与采购部门等合作的量测相关业务，也参与过5纳米、3纳米等先进制程的缺陷改善职务。2022年年底，陈力铭被日企延揽，担任高级营销专员，并负责台积电相关蚀刻设备服务。随后陈力铭疑似为解决工作上所碰到的问题，找上台积电在职的戈一平和吴秉骏，要求他们利用远程办公模式，登入台积电内部系统，再以手机拍摄计算机屏幕方式传送2纳米制程机密给陈力铭。

　　台积电今年7月发现上述违法行径，主动向台“高等检察署”提告；“高等检察署智财分署”在7月25日至28日陆续传唤、拘提涉案3名工程师。

　　检方指出，陈力铭为本案主嫌，涉及意图域外使用而窃取营业秘密罪等3罪，合并求刑14年；吴秉骏求刑9年；戈一平求刑7年。9月1日上午，3名工程师由“高等检察署”移送智慧财产及商业法院审理，并决定是否续押；经合议庭召开接押庭调查后，裁定3人全部续押禁见3个月。